Počet záznamů: 1
In-situ monitoring of the influence of inert gases (Ne, Ar, Kr, Xe) on plasma properties and the growth of magnetron sputtered nanostructured silver thin film
- 1.
SYSNO ASEP 0390588 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název In-situ monitoring of the influence of inert gases (Ne, Ar, Kr, Xe) on plasma properties and the growth of magnetron sputtered nanostructured silver thin film Tvůrce(i) Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
Pokorný, P. (CZ)
Piksová, K. (CZ)
Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCID
Čekada, M. (CZ)Zdroj.dok. The 8th Asian - European International Conference on Plasma Surface Engineering. AEPSE 2011. - Dalian : AJC PSE, EJC PISE, 2011 / Lei M.K.
216 O-101Poč.str. 1 s. Akce AEPSE 2011. The 8th Asian - European International Conference on Plasma Surface Engineering Datum konání 19.09.2011-22.09.2011 Místo konání Dalian Země CN - Čína Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CN - Čína Klíč. slova silver ; magnetron sputtering ; in-situ monitoring ; plasma characterization Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GAP108/11/1298 GA ČR - Grantová agentura ČR GAP108/11/0958 GA ČR - Grantová agentura ČR MEB091125 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GP202/09/P324 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Anotace Ultrathin nanostructured silver films exhibit unusual properties and performances. Functional properties of the film depend strongly on the nanostructure that can be manipulated by varying nucleation and growth conditions, which are in the case of RF magnetron sputtering closely related to plasma parameters. The sputtering process and the film growth are significantly influenced by the mass ratio of deposited atoms and sputtering gas ions. Deposition conditions promoting the growth of nanostructured film can be established via varying plasma parameters, i.e. mass, energy and flux of atoms and ions impinging the substrate and the ratio of atoms and ions. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2013
Počet záznamů: 1