Počet záznamů: 1  

From micro- to nanocrystalline diamond films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0390465
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevFrom micro- to nanocrystalline diamond films
    Tvůrce(i) Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Marton, M. (SK)
    Veselý, M. (SK)
    Zdroj.dok.Proceeding of School of Vacuum Technology - Vacuum and Advanced Materials. - Bratislava : Slovenská vákuová spoločnosť, 2011 / Varga M. ; Veselý M. - ISBN 978-80-969435-9-3
    Rozsah strans. 14-19
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceSchool of Vacuum Technology - Vacuum and Advanced Materials
    Datum konání08.09.2011-11.09.2011
    Místo konáníŠtrbské Pleso
    ZeměSK - Slovensko
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.SK - Slovensko
    Klíč. slovananocrystalline ; microcrystalline diamond ; MWCVD ; Raman ; SEM
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPMEB0810082 GA MŠk - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
    IAAX00100902 GA AV ČR - Akademie věd
    MEB0810081 GA MŠk - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceIn this study we compare different methods to deposit nanocrystalline diamond (NCD) films with low surface roughness required for various applications. Bias enhanced re-nucleation, argon and CO2 addition, CH4/H2 ratio variation and the influence of the pressure are mentioned. For diamond films deposition three different systems were used: (i) double bias enhanced hot filament chemical vapour deposition (HFCVD), (ii) focused microwave plasma (FMWP) and (iii) pulsed linear antenna microwave plasma (PLAMWP) system. The grain size and surface morphology of samples were evaluated from SEM (Scanning Electron Microscopy) images. The processes, which take place during the diamond deposition, are discussed in the article.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2013
Počet záznamů: 1