Počet záznamů: 1  

Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy

  1. 1.
    SYSNO ASEP0390204
    Druh ASEPL - Prototyp, funkční vzorek
    Zařazení RIVG - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
    Poddruh RIVFunkční vzorek
    NázevLineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
    Překlad názvuLinear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes
    Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Rok vydání2012
    Int.kódFS3/FZÚ/2012
    Technické parametryTyp termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
    Ekonomické parametryV rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
    Název vlastníkaFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    IČ vlastníka68378271
    Kat.výsl.dle nákl.A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Využ. jiným subjektemA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Požad. na licenč. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Číselná identifikaceSmlouva o spolupráci mezi SVCS Process Inovation s.r.o. a FZU AV ČR ze dne 14.2.2011
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vlastníkaCZ - Česká republika
    Klíč. slovaheating flux ; plasma ; ion flux ; deposition ; thin films ; deposition rate
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    CEPTA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura České republiky
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceByl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti
    Překlad anotaceLinear diagnostic system of the plasma deposition process for large scale depositions was developed. This system is capable to measure spatial distribution of heating flux, ion flux and deposition rate.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2013
Počet záznamů: 1