Počet záznamů: 1  

Structuring of diamond films by reactive ion plasma etching

  1. 1.
    SYSNO ASEP0389420
    Druh ASEPK - Konferenční příspěvek (lokální konf.)
    Zařazení RIVStať ve sborníku
    NázevStructuring of diamond films by reactive ion plasma etching
    Tvůrce(i) Domonkos, M. (CZ)
    Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Proška, J. (CZ)
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2012 (NaNS 2012). - Praha : ČVUT, 2012 / Rácová Z. ; Tesárek P. ; Nežerka V. ; Ryparová P. - ISBN 978-80-01-05132-0
    S. 35-40
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceNanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2012 (NaNS 2012)
    Datum konání11.09.2012-11.09.2012
    Místo konáníPraha
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceCST
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovananostructuring ; diamond thin films ; reactive ion etching ; scanning electron microscopy
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGAP108/12/0910 GA ČR - Grantová agentura ČR
    GAP108/11/0794 GA ČR - Grantová agentura ČR
    IAAX00100902 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceIn this study, two common strategies of diamond film structuring are described. Main focus is on the comparison of top-down and the bottom-up strategies. The top-down strategy is primary related to dry reactive ion etching through masking materials (or even without mask), while bottom-up strategy is based on selective area deposition of diamond film. Several methods of both strategies are demonstrated in details in the article, regarding to their properties and basic principles.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2013
Počet záznamů: 1