Počet záznamů: 1
Nanolitografie a kompenzace magnetického pole v prostředí s průmyslovým rušením
- 1.
SYSNO ASEP 0370933 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Nanolitografie a kompenzace magnetického pole v prostředí s průmyslovým rušením Překlad názvu Nanolithography and Magnetic Field Cancellation in the Industrial Area Tvůrce(i) Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RIDCelkový počet autorů 5 Zdroj.dok. Jemná mechanika a optika. - : Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - ISSN 0447-6441
Roč. 56, 11-12 (2011), s. 312-316Poč.str. 5 s. Jazyk dok. cze - čeština Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova E-beam writer with a shaped beam ; magnetic field cancelling system ; electron optics column ; nanolithography ; nanotechnology Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Anotace Příspěvek se zabývá výsledky dosaženými při litografických operacích s využitím elektronového litografu BS 600. Článek diskutuje zejména vliv rušení v běžném průmyslovém prostředí na parametry dosažitelné při tomto způsobu litografie. Za převažující rušivý projev je považováno proměnlivé elektromagnetické pole v kritické oblasti, tedy podél osy elektronového svazku zapisovacího zařízení. Prezentovány jsou mezní parametry realizovaných struktur ve dvou případech, jednak při dosavadním běžném uspořádání a jednak při využití systému pro aktivní kompenzaci magnetického pole. Autoři se domnívají, že zkušenosti a výsledky popsané v tomto příspěvku mohou významným způsobem pomoci při budování vědeckých i průmyslových laboratoří či provozů se zaměřením na litografii, mikroskopii i technologie obecně, a to při práci s objekty o rozměrech pod 100 nanometrů. Překlad anotace The paper describes the results achieved by electron beam lithography when using an electron beam writer BS 600. The impacts of interference that are common in industrial areas are discussed. Electromagnetic field in the critical place i.e. along an electron beam axis is considered to be the predominant source of disturbances. An installation of a magnetic field cancelling system is described. The best resolution achievable in both cases (the magnetic field cancelling system being on or off) are presented. It is supposed that the results and experience described herein would be helpful when new laboratories and operations for nanotechnologies will be designed and built. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2012
Počet záznamů: 1