Počet záznamů: 1
Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources
- 1.
SYSNO ASEP 0359322 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources Tvůrce(i) Sobierajski, R. (PL)
Bruijn, S. (NL)
Khorsand, A.R. (NL)
Louis, E. (NL)
van de Kruijs, R.W.E. (NL)
Burian, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID
Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Cihelka, Jaroslav (FZU-D)
Gleeson, A. (GB)
Grzonka, J. (PL)
Gullikson, E.M. (US)
Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
Hau-Riege, S. (US)
Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Jurek, M. (PL)
Klinger, D. (PL)
Krzywinski, J. (US)
London, R. (US)
Pelka, J. B. (PL)
Płociński, T. (PL)
Rasiński, M. (PL)
Tiedtke, K. (DE)
Toleikis, S. (DE)
Vyšín, Luděk (FZU-D) RID, ORCID
Wabnitz, H. (DE)
Bijkerk, F. (NL)Zdroj.dok. Optics Express. - : Optical Society of America - ISSN 1094-4087
Roč. 19, č. 1 (2011), s. 193-205Poč.str. 13 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova laser damage ; thermal effects ; multilayers ; optical design and fabrication ; free-electron lasers Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP KAN300100801 GA AV ČR - Akademie věd LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000285915300031 DOI 10.1364/OE.19.000193 Anotace We investigated the damage mechanism of MoN/SiN multilayer XUV optics under two extreme conditions: thermal annealing and irradiation with single shot intense XUV pulses from the free-electron laser facility in Hamburg - FLASH. The damage was studied "post-mortem" by means of X-ray diffraction, interference-polarizing optical microscopy, atomic force microscopy, and scanning transmission electron microscopy. Although the timescale of the damage processes and the damage threshold temperatures were different (in the case of annealing it was the dissociation temperature of Mo2N and in the case of XUV irradiation it was the melting temperature of MoN) the main damage mechanism is very similar: molecular dissociation and the formation of N-2, leading to bubbles inside the multilayer structure. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2012
Počet záznamů: 1