Počet záznamů: 1  

Development of EOD for the design in electron and ion microscopy

  1. 1.
    SYSNO ASEP0358560
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevDevelopment of EOD for the design in electron and ion microscopy
    Tvůrce(i) Zlámal, J. (CZ)
    Lencová, Bohumila (UPT-D) RID, SAI
    Celkový počet autorů2
    Zdroj.dok.Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section A. - : Elsevier - ISSN 0168-9002
    Roč. 654, č. 1 (2011), s. 278-282
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovafinite element method ; tolerancing ; user interface
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    CEPIAA100650805 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
    UT WOS000292713900053
    DOI10.1016/j.nima.2010.12.198
    AnotaceThe paper surveys new features of the EOD program, a complete workplace for the design of electron and ion microscopes. The extensions of the program for space charge computations, interaction with gases in the specimen chamber and misalignments are handled as plug-ins, keeping the program as a single unit. The current status of the tolerancing plug-in is described in more detail.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2012
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.