Počet záznamů: 1
A study of plasma parameters in hollow cathode plasma jet in pulse regime
- 1.
SYSNO ASEP 0357985 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název A study of plasma parameters in hollow cathode plasma jet in pulse regime Tvůrce(i) Kudrna, P. (CZ)
Klusoň, J. (CZ)
Leshkov, S. (CZ)
Chichina, M. (CZ)
Picková, I. (CZ)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tichý, M. (CZ)Zdroj.dok. Contributions to Plasma Physics. - : Wiley - ISSN 0863-1042
Roč. 50, č. 9 (2010), s. 886-891Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova thin-films ; system ; deposition ; RF ; nitride Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP GA202/09/0800 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000284135100017 DOI 10.1002/ctpp.201010150 Anotace The pulsed DC hollow cathode discharge has been studied in the low pressure plasma jet sputtering system by means of cylindrical Langmuir probe. Measurements have been performed in pure Ar with the flow rate of 30 sccm. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1