Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO ASEP	0352509
Druh ASEP	C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
Zařazení RIV	D - Článek ve sborníku
Název	Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons
Tvůrce(i)	Müllerová, Ilona (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID} Hovorka, Miloš (UPT-D) Frank, Luděk (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID}
Celkový počet autorů	3
Zdroj.dok.	Proceedings of 5th Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology. - Toyama : University of Toyama, 2010 - ISBN 978-4-9903248-2-7
Rozsah stran	s. 45-48
Poč.str.	4 s.
Akce	JCNCS2010 /5./ Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology
Datum konání	12.09.2010-15.09.2010
Místo konání	Toyama
Země	JP - Japonsko
Typ akce	WRD
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	JP - Japonsko
Klíč. slova	very low energy STEM ; penetration of very slow electrons ; graphene
Vědní obor RIV	JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
CEP	IAA100650902 GA AV ČR - Akademie věd
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
Anotace	Free-standing films of thicknesses in units of nm have been examined using both reflected and transmitted electrons in the scanning low energy electron microscope.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2011

Počet záznamů: 1