Počet záznamů: 1
Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons
- 1.
SYSNO ASEP 0352509 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons Tvůrce(i) Müllerová, Ilona (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Hovorka, Miloš (UPT-D)
Frank, Luděk (UPT-D) RID, SAI, ORCIDCelkový počet autorů 3 Zdroj.dok. Proceedings of 5th Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology. - Toyama : University of Toyama, 2010 - ISBN 978-4-9903248-2-7 Rozsah stran s. 45-48 Poč.str. 4 s. Akce JCNCS2010 /5./ Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology Datum konání 12.09.2010-15.09.2010 Místo konání Toyama Země JP - Japonsko Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. JP - Japonsko Klíč. slova very low energy STEM ; penetration of very slow electrons ; graphene Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP IAA100650902 GA AV ČR - Akademie věd ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Anotace Free-standing films of thicknesses in units of nm have been examined using both reflected and transmitted electrons in the scanning low energy electron microscope. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1