Počet záznamů: 1  

Modification of the Schottky FE ZrO/W electron emitter

  1. 1.
    SYSNO ASEP0352423
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevModification of the Schottky FE ZrO/W electron emitter
    Tvůrce(i) Matějka, František (UPT-D) RID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
    Celkový počet autorů4
    Zdroj.dok.Proceedings of the 17th IFSM International Microscopy Congress. - Rio de Janeiro : Sociedade Brasileira de Microscopia e Microanilise, 2010 - ISBN 978-85-63273-06-2
    Rozsah strani1.12: 1-2
    Poč.str.2 s.
    AkceInternational Microscopy Congress (IMC17) /17./
    Datum konání19.09.2010-24.09.2010
    Místo konáníRio de Janeiro
    ZeměBR - Brazílie
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.BR - Brazílie
    Klíč. slovae-beam writing system ; rectangular-shaped electron beam ; point projection
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    CEPIAA100650803 GA AV ČR - Akademie věd
    FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    CEZAV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
    AnotaceA Schottky electron emitter with a layer of ZrOx is used in our e-beam writing system working with a rectangular-shaped electron beam. The low radius of the tip less than 300 nm is necessary for the proper function of the electron-optical system based on the principle of point projection.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2011
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.