Počet záznamů: 1
IR Laser CVD of Nanostructured Si/Ge Alloy from Silane-Germane Mixture
- 1.
SYSNO ASEP 0346363 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název IR Laser CVD of Nanostructured Si/Ge Alloy from Silane-Germane Mixture Tvůrce(i) Křenek, Tomáš (UCHP-M)
Murafa, Nataliya (UACH-T) RID, SAI
Bezdička, Petr (UACH-T) SAI, RID, ORCID
Šubrt, Jan (UACH-T) SAI, RID
Pola, Josef (UCHP-M) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Journal of Analytical and Applied Pyrolysis. - : Elsevier - ISSN 0165-2370
Roč. 89, č. 1 (2010), s. 137-141Poč.str. 5 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova silane ; germane ; ir laser Vědní obor RIV CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie CEP LC523 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z40720504 - UCHP-M (2005-2011) AV0Z40320502 - UACH-T (2005-2011) UT WOS 000281930300020 DOI 10.1016/j.jaap.2010.07.003 Anotace IR laser-irradiation of an equimolar silane-germane mixture in Ar results in the decomposition of both compounds and allows chemical vapour deposition (CVD) of solid metastable and nanostructured Si/Ge film. Pracoviště Ústav chemických procesů Kontakt Eva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1