Selective area deposition of diamond structures

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO ASEP	0339576
Druh ASEP	C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
Zařazení RIV	D - Článek ve sborníku
Název	Selective area deposition of diamond structures
Tvůrce(i)	Babchenko, Oleg (FZU-D)_{RID, ORCID} Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hruška, Karel (FZU-D)_{RID, ORCID} Vaněček, Milan (FZU-D)_RID
Zdroj.dok.	Proceedings of the 15th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter. - Zilina : University of Zilina, 2009 / Pudiš J. ; Harmatha L. ; Müllerová J. ; Jamnický I. - ISBN 978-80-554-0057-0
Rozsah stran	s. 251-255
Poč.str.	5 s.
Akce	International Conference on Applied Physics of Condensed Matter /15./ (APCOM 2009)
Datum konání	24.06.2009-26.06.2009
Místo konání	Bystrá, Liptovský Ján
Země	SK - Slovensko
Typ akce	EUR
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	SK - Slovensko
Klíč. slova	selective area deposition ; plasma etching ; polymer mask
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEP	KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
	LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
Anotace	The report is about selective area deposition of diamond structures after the reactive ion etching and using a photo-resist as mask.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2010

Počet záznamů: 1