Počet záznamů: 1

Atmospheric pressure chemical vapour deposition of F doped SnO.sub.2./sub. for optimum performance solar cells

SYSNO ASEP	0337091
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Článek ve WOS
Název	Atmospheric pressure chemical vapour deposition of F doped SnO₂ for optimum performance solar cells
Překlad názvu	Příprava SnO₂ vrstev dopovaných fluorem metodou chemické deposice z plynné fáze při atmosferickém tlaku pro optimalizaci slunečních článků
Tvůrce(i)	Sheel, D.W. (GB) Yates, H.M. (GB) Evans, P. (GB) Dagkaldiran, U. (DE) Gordijn, A. (DE) Finger, F. (DE) Remeš, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID} Vaněček, Milan (FZU-D)_RID
Zdroj.dok.	Thin Solid Films. - : Elsevier - ISSN 0040-6090 Roč. 517, č. 10 (2009), s. 3061-3065
Poč.str.	5 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	CH - Švýcarsko
Klíč. slova	TCO ; solar cell
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
UT WOS	000265178700008
DOI	10.1016/j.tsf.2008.11.121
Anotace	We have developed an advanced atmospheric pressure chemical vapour deposition process, by applying fast experimentation and using a combinatorial chemistry approach to aid the studies. The deposited films were characterised for crystallinity, morphology (roughness), optical properties and resistance to aid optimisation of material suitable for solar cells.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2010

Počet záznamů: 1