Počet záznamů: 1
Atmospheric pressure chemical vapour deposition of F doped SnO.sub.2./sub. for optimum performance solar cells
- 1.
SYSNO ASEP 0337091 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Atmospheric pressure chemical vapour deposition of F doped SnO2 for optimum performance solar cells Překlad názvu Příprava SnO2 vrstev dopovaných fluorem metodou chemické deposice z plynné fáze při atmosferickém tlaku pro optimalizaci slunečních článků Tvůrce(i) Sheel, D.W. (GB)
Yates, H.M. (GB)
Evans, P. (GB)
Dagkaldiran, U. (DE)
Gordijn, A. (DE)
Finger, F. (DE)
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Vaněček, Milan (FZU-D) RIDZdroj.dok. Thin Solid Films. - : Elsevier - ISSN 0040-6090
Roč. 517, č. 10 (2009), s. 3061-3065Poč.str. 5 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova TCO ; solar cell Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000265178700008 DOI https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.11.121 Anotace We have developed an advanced atmospheric pressure chemical vapour deposition process, by applying fast experimentation and using a combinatorial chemistry approach to aid the studies. The deposited films were characterised for crystallinity, morphology (roughness), optical properties and resistance to aid optimisation of material suitable for solar cells. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1