Počet záznamů: 1
Interaction of intense ultrashort XUV pulses with silicon
- 1.
SYSNO ASEP 0335956 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Interaction of intense ultrashort XUV pulses with silicon Překlad názvu Interakce intenzivních ultra-krátkých XUV pulzů s křemíkem Tvůrce(i) Sobierajski, R. (PL)
Klinger, D. (PL)
Jurek, M. (PL)
Pelka, J. B. (PL)
Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Cihelka, Jaroslav (FZU-D)
Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
Vyšín, Luděk (FZU-D) RID, ORCID
Jastrow, U. (DE)
Stojanovic, N. (DE)
Toleikis, S. (DE)
Wabnitz, H. (DE)
Krzywinski, J. (US)
Hau-Riege, S. (US)
London, R. (US)Zdroj.dok. Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. - Bellingham : SPIE, 2009 / Juha L. ; Bajt S. ; Sobierajski R. - ISSN 0277-786x - ISBN 9780819476357 Rozsah stran 736107/1-736107/11 Poč.str. 11 s. Akce Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II Datum konání 21.04.2009-23.04.2009 Místo konání Prague Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova radiation damage ; amorphization ; ablation ; monocrystalline silicon ; soft x-ray free-electron laser Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP KAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011) Anotace Single shot radiation damage of bulk silicon induced by ultrashort XUV pulses was studied. The sample was chosen because it is broadly used in XUV optics and detectors where radiation damage is a key issue. It was irradiated at FLASH facility in Hamburg, which provides intense femtosecond pulses at 32.5 nm wavelength. The permanent structural modifications of the surfaces exposed to single shots were characterized by means of phase contrast optical microscopy and atomic force microscopy. Mechanisms of different, intensity dependent stages of the surface damage are described. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1