Počet záznamů: 1
SiC.sub.x./sub. layers prepared by hybrid laser deposition and PLD
- 1.
SYSNO ASEP 0335778 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název SiCx layers prepared by hybrid laser deposition and PLD Překlad názvu Vrstvy SiCx připravené hybridní a pulsní laserovou deposicí Tvůrce(i) Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
Kocourek, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Zemek, Josef (FZU-D) RID, ORCID
Kadlec, J. (CZ)Celkový počet autorů 4 Zdroj.dok. Plasma Processes and Polymers. - : Wiley - ISSN 1612-8850
Roč. 6, S1 (2009), s. 5366-5369Poč.str. 4 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova SiC ; composites ; hybrid deposition ; puls laser deposition ; magnetron Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000272302900074 DOI 10.1002/ppap.200930803 Anotace Thin SiCx films were fabricated using hybrid laser-magnetron deposition system and pulsed laser deposition (PLD). Film topology, crystallinity, composition and chemical bonds were studied. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1