Počet záznamů: 1  

Damage of amorphous carbon induced by soft x-ray femtosecond pulses above and below the critical angle

  1. 1.
    SYSNO ASEP0334026
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevDamage of amorphous carbon induced by soft x-ray femtosecond pulses above and below the critical angle
    Překlad názvuStudium poškozování amorfního uhlíku ozařovaného femtosekundovými pulsy měkkého rentgenového záření nad a pod kritickým úhlem
    Tvůrce(i) Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
    Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
    Altapova, V. (DE)
    Burian, T. (CZ)
    Gleeson, A.J. (GB)
    Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Jurek, M. (PL)
    Sinn, H. (DE)
    Störmer, M. (DE)
    Sobierajski, R. (PL)
    Tiedtke, K. (DE)
    Toleikis, S. (DE)
    Tschentscher, T. (DE)
    Vyšín, Luděk (FZU-D) RID, ORCID
    Wabnitz, H. (DE)
    Gaudin, J. (DE)
    Zdroj.dok.Applied Physics Letters. - : AIP Publishing - ISSN 0003-6951
    Roč. 95, č. 3 (2009), 031111/1-031111/3
    Poč.str.3 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovaamorphous state ; carbon ; coatings ; graphitisation ; laser beam effects ; nanostructured materials ; phase transformations ; reflectivity
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEPKAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd
    LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    IAAX00100903 GA AV ČR - Akademie věd
    IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000268405300011
    DOI10.1063/1.3184785
    AnotaceWe present results of damage studies conducted at the Free Electron LASer in Hamburg (FLASH) facility with 13.5 nm (91.8 eV) and 7 nm (177.1 eV) radiations. The laser beam was focused on a sample of 890-nm-thick amorphous carbon coated on a silicon wafer mimicking a x-ray mirror. The fluence threshold for graphitization was determined for different grazing angles above and below the critical angle. The observed angular dependence of F-th is explained by the variation in absorption depth and reflectivity. Moreover, the absorbed local dose needed for the phase transition leading to graphitization is shown to vary with the radiation wavelength.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2010
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.