Počet záznamů: 1
A study of the ion flux during deposition of titanium thin films by hollow cathode plasma jet
- 1.
SYSNO ASEP 0333649 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název A study of the ion flux during deposition of titanium thin films by hollow cathode plasma jet Překlad názvu Studium iontového toku během depozice tenkých vrstev titanu pomocí plazmové trysky s efektem duté katody Tvůrce(i) Virostko, Petr (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Tichý, M. (CZ)Zdroj.dok. Journal of Plasma and Fusion Research SERIES - ISSN 1883-9630
Roč. 8, - (2009), 719-723Poč.str. 5 s. Akce Proceedings of the 14th International Congress on Plasma Physics (ICPP2008) Datum konání 08.09.2008-12.09.2008 Místo konání Fukuoka Země JP - Japonsko Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. JP - Japonsko Klíč. slova ion flux ; plasma jet ; hollow cathode ; plasma diagnostics Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP KJB100100707 GA AV ČR - Akademie věd KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Anotace Flux of positive ions to the substrate in the hollow cathode plasma jet system during deposition of titanium thin films was studied. The substrate was negatively biased by applying 50 kHz pulsed DC, or 0.50-1.25 MHz and 13.56 MHz high-frequency voltage to it. The ion flux determined in the DC hollow cathode discharge during the active high frequency bias was systematically higher than for the pulsed DC bias or determined right after the high frequency bias was turned off. On the other hand in the RF hollow cathode discharge, the ion fluxes determined for the active high frequency and 50 kHz low frequency bias were comparable. Possible explanations of this phenomenon are discussed. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1