Počet záznamů: 1  

Enhancing nanocrystalline diamond surface conductivity by deposition temperature and chemical post-processing

  1. 1.
    SYSNO ASEP0332489
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevEnhancing nanocrystalline diamond surface conductivity by deposition temperature and chemical post-processing
    Překlad názvuZvýšení povrchové vodivosti nanokrystalického diamantu depoziční teplotou a chemickým opracováním
    Tvůrce(i) Kozak, Halyna (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Ledinský, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok.Physica Status Solidi A : Applications and Materials Science. - : Wiley - ISSN 1862-6300
    Roč. 206, č. 2 (2009), 276-280
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovananocrystalline diamond films ; surface conductivity ; non-diamond phase ; AFM ; Raman spectroscopy
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPLC06040 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
    LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    KAN400100652 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000264009900017
    DOI10.1002/pssa.200824355
    AnotaceThe surface conductivity of nanocrystalline diamond (NCD) films as a function of deposition temperature and chemical post-processing was characterized by current-voltage measurements using co-planar Au electrodes. Raman spectroscopy was applied to investigate the bulk quality of NCD films. The surface material properties and morphology were studied using atomic force microscopy (AFM). The results indicate that the chemical post-processing of as-grown NCD films and re-hydrogenation leads to a significant increase in the surface conductivity by three orders of magnitude. The highest surface conductivity was obtained on NCD films deposited at 600°C.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2010
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.