Počet záznamů: 1
Deposition of nanocrystalline and microcrystalline Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. by means of pulse modulated low pressure plasma jet system
- 1.
SYSNO ASEP 0323878 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Deposition of nanocrystalline and microcrystalline BaxSr1-xTiO3 by means of pulse modulated low pressure plasma jet system Překlad názvu Depozice nanokrystalického a mikrokrystalického BaxSr1-xTiO3 pomocí pulzně modulovaného nízkotlakého systému s plazmovou tryskou Tvůrce(i) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Virostko, Petr (FZU-D)
Deyneka, Alexander (FZU-D)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Chvostová, Dagmar (FZU-D) RID, SAI, ORCID
Šíchová, Hana (FZU-D)
Pokorný, Jan (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 8 Zdroj.dok. Integrated Ferroelectrics - ISSN 1058-4587
Roč. 81, č. 1 (2006), s. 227-237Poč.str. 11 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova ferroelectric thin films ; hollow cathode sputtering ; emission spectroscopy Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000239819400019 DOI 10.1080/10584580600685535 Anotace Modulated RF plasma jet system was used for deposition of BaxSr1-xTiO3 and SrTiO3 thin films.Optical emission spectroscopy of the plasma was used for control of concentration of particles sputtered from the hollow cathode. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2009
Počet záznamů: 1