Počet záznamů: 1
Electrical probe diagnostics of the hollow cathode plasma jet system for deposition of TiO.sub.x./sub. thin films
- 1.
SYSNO ASEP 0309887 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Electrical probe diagnostics of the hollow cathode plasma jet system for deposition of TiOx thin films Překlad názvu Sondová diagnostika plazmového tryskového systému s efektem duté katody pro depozice tenkých vrstev TiOx. Tvůrce(i) Virostko, Petr (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Tichý, M. (CZ)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Contributions to Plasma Physics. - : Wiley - ISSN 0863-1042
Roč. 48, 5-7 (2008), s. 527-533Poč.str. 7 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova hollow cathode ; plasma jet ; probe diagnostics ; deposition of thin films Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd KJB100100707 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd GA202/06/0776 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000258126900024 DOI 10.1002/ctpp.200810085 Anotace Measurements of positive ion flux to a negatively biased substrate for deposition of TiOx thin films by the hollow cathode plasma jet system are presented. Different methods of obtaining the bias of substrate and measuring the resulting ion flux were used for different bias frequencies. Time-resolved Langmuir probe technique was simultaneously used to observe the basic plasma properties during the ion flux measurements. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2009
Počet záznamů: 1