Počet záznamů: 1  

Influence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation

  1. 1.
    SYSNO ASEP0308150
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevInfluence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation
    Překlad názvuVliv vzorku na plazma v depozičním/odprašovacím reaktoru: experiment a počítačová simulace
    Tvůrce(i) Brzobohatý, Oto (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Buršíková, V. (CZ)
    Nečas, D. (CZ)
    Valtr, M. (CZ)
    Trunec, D. (CZ)
    Zdroj.dok.Journal of Physics D-Applied Physics. - : Institute of Physics Publishing - ISSN 0022-3727
    Roč. 41, č. 3 (2008), 035213:1-8
    Poč.str.8 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovar. f. plasma ; computer simulation ; secondary electron emision ; plasma deposition ; plasma sputtering
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    CEPGA202/07/1669 GA ČR - Grantová agentura ČR
    CEZAV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
    UT WOS000253177800036
    DOI10.1088/0022-3727/41/3/035213
    AnotaceThe aim of the present work was to investigate the influence of the substrate material on the plasma enhanced chemical vapor deposition and the plasma sputtering of thin films in low pressure parallel-plate r.f. discharges. It was observed that the deposition or sputtering rates differed above different materials, e.g., above a substrate and substrate electrode. Moreover, the substrates placed on the bottom r.f. electrode seemed to be mirrored in the thickness of a thin film deposited or sputtered on the upper grounded electrode. The influence of the substrate material on the plasma parameters was studied via Particle In Cell/Monte Carlo computer simulation. According to our finding the mirroring of the substrate was caused by different secondary electron emission yields of the substrate material and material of the substrate electrode.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2008
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.