CO2 Laser Photosensitized Decomposition of Diethylsilane for Deposition of SiXC1-X Coatings

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO ASEP	0164773
Druh ASEP	A - Abstrakt
Zařazení RIV	Záznam nebyl označen do RIV
Zařazení RIV	Není vybrán druh dokumentu
Název	CO2 Laser Photosensitized Decomposition of Diethylsilane for Deposition of SiXC1-X Coatings
Tvůrce(i)	Jakoubková, Marie (UCHP-M) Bastl, Zdeněk (UFCH-W)_{RID, ORCID} Šubrt, Jan (UACH-T)_{SAI, RID} Pokorná, Dana (UCHP-M)_{RID, SAI} Fajgar, Radek (UCHP-M)_{RID, ORCID, SAI} Pola, Josef (UCHP-M)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	ROMOPTO '94. Conference in Optics. Proceedings Series SPIE, 2461 / Vlad V. I.. - Bellingham : SPIE, 1994 - ISBN 0-8194-1813-7 s. 121-123
Akce	Conference in Optics ROMOPTO 94 /4./
Datum konání	05.09.1994-08.09.1994
Místo konání	Bellingham
Země	US - Spojené státy americké
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	US - Spojené státy americké
CEP	IA47265 GA AV ČR - Akademie věd
Pracoviště	Ústav chemických procesů
Kontakt	Eva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227
Rok sběru	1996

Počet záznamů: 1