Počet záznamů: 1
Investigation of RF and DC plasma jet system during deposition of highly oriented ZnO thin films
- 1.
SYSNO ASEP 0134425 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Investigation of RF and DC plasma jet system during deposition of highly oriented ZnO thin films Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, P. (CZ)
Ptáček, Pavel (FZU-D)
Šíchová, Hana (FZU-D)
Šícha, Miloš (FZU-D)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972
174-175, - (2003), s. 627-631Poč.str. 5 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova plasma jet ; ZnO thin films ; Langmuir probe Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GP202/02/P021 GA ČR - Grantová agentura ČR GA202/00/1592 GA ČR - Grantová agentura ČR LN00A015 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ME 441 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace RF and DC plasma jet sputtering systems were investigated as sources for deposition of ZnO thin films. Deposited zone films have a strong orientation of hexagonal crystallites with "c" axis perpendicular to the substrate surface. Temperature of the substrate did not exceed 150 o C during the deposition. Langmuir probe measurement performed at the substrate revealed two groups of electrons with different temperatures in the DC plasma jet. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2004
Počet záznamů: 1