Počet záznamů: 1
Plasma Polymers and Related Materials
- 1.
SYSNO ASEP 0032087 Druh ASEP M - Kapitola v monografii Zařazení RIV C - Kapitola v knize Název Treatment of Organosilicon Thin Films by Exposure to Different O2 Based Plasma and Afterglow Conditions Překlad názvu Plazmové leptání organokřemíkových tenkých vrstev modifikovaných za různých podmínek aktivního a rozpadajícího se plazmatu Tvůrce(i) Supiot, P. (FR)
Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Vivien, C. (FR)
Granier, A. (FR)
Bousquet, CH. (FR)
Boufayed, F. (FR)
Escaich, D. (FR)
Raynoad, P. (FR)
Strýhal, Z. (CZ)
Pavlík, Josef (ENTU-I)Zdroj.dok. Plasma Polymers and Related Materials, Thin Films by Exposure to Different O2 Based Plasma and Afterglow Conditions. - Ankara : Hacettepe University Press, 2005 - ISBN 975-491-194-0 Rozsah stran s. 53-58 Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. TR - Turecko Klíč. slova organosilicon ; PACVD ; PECVD ; RBS analysis Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP OC 527.100 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy 1P05OC014 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z10480505 - UJF-V (2005-2011) Anotace The aim of this study is to investigate the transformation of organosilicon plasma polymer films (500 nm thick) upon exposure to oxygen rich plasmas and after-glow. Different organosilicon films (Si, O, C, H) deposited on silicon in RF inductively coupled, microwave distributed electron cyclotron resonance and microwave induced remote afterglow reactors, are considered. The analysis of the effect of these teratments which are achieved in the same reactors is done through a RBS study. The organic films are partially transformed into a inorganic SiOx – like film, but the effects are shown to be quite different according to both the deposition process and post-treatment conditions. Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 2006
Počet záznamů: 1