Počet záznamů: 1
RF Hollow Cathode Plasma Jet Deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. Films
- 1.
SYSNO ASEP 0027161 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název RF Hollow Cathode Plasma Jet Deposition of BaxSr1-xTiO3 Films Překlad názvu Depozice vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí RF plasmové trysky Tvůrce(i) Ianno, N.J. (US)
Soukup, R. J. (US)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Šíchová, Hana (FZU-D)Zdroj.dok. Materials, Integration and Technology for Monolithic Instruments. - Pittsburgh : Warendale, PA, 2005 / Theil A.J. ; Bohm M. ; Gardner S.D. ; Blalock T. - ISBN 1-55899-823-3 Rozsah stran d2.4.1-d2.4.6 Poč.str. 6 s. Akce MRS Spring Meeting Datum konání 28.03.2005-01.04.2005 Místo konání San Francisco Země US - Spojené státy americké Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova BSTO thin films ; hollow cathode ; emission spectroscopy Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP KJB1010302 GA AV ČR - Akademie věd Anotace An initial study of the RF hollow cathode plasma jet deposition of BaxSr1ـxTiO3 has been performed. Deposition occurred from a single composite nozzle consisting of BaTiO3 and SrTiO3 at substrate temperatures on the 500-550°C range. It has been shown that film composition can be easily controlled by the nozzle composition as well as other deposition parameters. The as-deposited films exhibit clear BSTO peaks with grain size on the order of 30 nm Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2006
Počet záznamů: 1