Počet záznamů: 1
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system
- 1.Hubička, Zdeněk - Zlámal, M. - Olejníček, Jiří - Tvarog, Drahoslav - Čada, Martin - Krýsa, J.
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system.
Coatings. Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-14, č. článku 232. E-ISSN 2079-6412
Obor OECD: Materials engineering
Impakt faktor: 2.881, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
http://hdl.handle.net/11104/0310408
Počet záznamů: 1