Počet záznamů: 1
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
- 1.Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Interní kód: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
http://hdl.handle.net/11104/0292132
Počet záznamů: 1