Počet záznamů: 1
Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek
- 1.Průcha, Lukáš - Piňos, Jakub - Sýkora, Jiří - Materna Mikmeková, Eliška
Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek.
[Gas supplies for CVD device for the preparation of graphene based substrates.]
Interní kód: APL-2019-04 ; 2019
Technické parametry: Funkční vzorek se skládá z nerezové trubice, příruby s vývodem, 3 ventilů, 2 průtokoměrů, 2 elektromagnetických zámků, 2 plynových filtrů, tenké ocelové trubičky, kabelů na propojení s PC, 2 plynových bomb a CVD pece.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz
Obor OECD: Coating and films
http://hdl.handle.net/11104/0298928
Počet záznamů: 1