In-situ plasma monitoring by optical emission spectroscopy during pulsed laser deposition of doped Lu.sub.2./sub.O.sub.3./sub.

0546180 - FZÚ 2022 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Irimiciuc, Stefan - More Chevalier, Joris - Chertopalov, Sergii - Fekete, Ladislav - Novotný, Michal - Havlová, Šárka - Poupon, Morgane - Zikmund, Tomáš - Kůsová, Kateřina - Lančok, Ján
In-situ plasma monitoring by optical emission spectroscopy during pulsed laser deposition of doped Lu₂O₃.
Applied Physics B-Lasers and Optics. Roč. 127, č. 10 (2021), č. článku 140. ISSN 0946-2171. E-ISSN 1432-0649
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA18-17834S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: expansion * dynamics * ablation * target * oxides
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.171, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1007/s00340-021-07689-4

Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0322752