Počet záznamů: 1
High hydrogen dilution and low substrate temperature cause columnar growth of hydrogenated amorphous silicon
- 1.0347839 - FZÚ 2011 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Bronsveld, P.C.P. - Mates, Tomáš - Fejfar, Antonín - Kočka, Jan - Rath, J.K. - Schropp, R.E.I.
High hydrogen dilution and low substrate temperature cause columnar growth of hydrogenated amorphous silicon.
Physica Status Solidi A. Roč. 207, č. 3 (2010), s. 525-529. ISSN 1862-6300. E-ISSN 1862-6319
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06040; GA AV ČR KAN400100701; GA MŠMT LC510
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: hydrogenated amorphous silicon * columnar growth * cross-sectional transmission electron microscope (X-TEM]
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.458, rok: 2010
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.200982847
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0188523
Počet záznamů: 1