Physical properties of homogeneous TiO.sub.2./sub. films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure

0334335 - FZÚ 2010 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Straňák, Vítězslav - Čada, Martin - Quaas, M. - Block, S. - Bogdanowicz, R. - Kment, Štěpán - Wulff, H. - Hubička, Zdeněk - Helm, Ch.A. - Tichý, M. - Hippler, R.
Physical properties of homogeneous TiO₂ films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure.
[Fyzikální vlastnosti homogenních TiO₂ vrstev připravovaných pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového odprašování v závislosti na krystalografické fázi a nanostruktuře.]
Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 42, č. 10 (2009), 105204/1-105204/12. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA AV ČR KJB100100805; GA AV ČR KAN400720701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: TiO₂ * high power magnteron sputtering * plasma diagnostic * film diagnostic
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.083, rok: 2009

Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0179099