Počet záznamů: 1
Nanocrystalline boron-doped diamond as a corrosion-resistant anode for water oxidation via Si photoelectrodes
SYS 0493543 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103220514.1 014 $a 85052434731 $2 SCOPUS 014 $a 000444355700036 $2 WOS 017 70
$a 10.1021/acsami.8b08714 $2 DOI 100 $a 20180920d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a US 200 1-
$a Nanocrystalline boron-doped diamond as a corrosion-resistant anode for water oxidation via Si photoelectrodes 215 $a 13 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0329852 $1 011 $a 1944-8244 $e 1944-8252 $1 200 1 $a ACS Applied Materials and Interfaces $v Roč. 10, č. 35 (2018), s. 29552-29564 $1 210 $c American Chemical Society 608 $a Article 610 $a nanocrystalline diamond 610 $a photoanode 610 $a protective coating 610 $a silicon photoelectrodes 610 $a transparent conductive film 610 $a water splitting 700 -1
$3 cav_un_auth*0285329 $a Ashcheulov $b Petr $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $y RU $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0264753 $a Taylor $b Andrew $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $y GB $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0302391 $a Mortet $b Vincent $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $y FR $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0017870 $a Poruba $b A. $y CZ $q Fill Factory S.r.o. 701 -1
$3 cav_un_auth*0261692 $a Le Formal $b F. $y CH $q Swiss Federal Institute of Technology, Lausanne 701 -1
$3 cav_un_auth*0102849 $a Krýsová $b Hana $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0259525 $a Klementová $b Mariana $i Strukturní analýza $j Structural Analysis $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100246 $a Hubík $b Pavel $i Polovodiče $j Semiconductors $p FZU-D $w Semiconductors $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0215563 $a Kopeček $b Jaromír $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0269745 $a Lorinčík $b J. $y CZ $q Centrum výzkumu Řež, s.r.o. 701 -1
$3 cav_un_auth*0235148 $a Yum $b J. H. $y CH $q Swiss Federal Institute of Technology, Lausanne 701 -1
$3 cav_un_auth*0100323 $a Kratochvílová $b Irena $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102829 $a Kavan $b Ladislav $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $p UFCH-W $w Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287963 $a Sivula $b K. $y CH $q Swiss Federal Institute of Technology, Lausanne
Počet záznamů: 1