Počet záznamů: 1
Diamond growth on horizontally and vertically aligned Si substrates in low pressure surface wave plasma
SYS 0486982 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215640.0 017 $2 DOI 100 $a 20180221d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a CN 200 1-
$a Diamond growth on horizontally and vertically aligned Si substrates in low pressure surface wave plasma 215 $a 1 s. $c E 300 $a Do RIV jako O 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0486981 $1 011 $a 0169-4332 $e 1873-5584 $1 200 1 $a 2nd International Conference on Applied Surface Science (ICASS) $1 210 $a Dalian $d 2017 $1 702 1 $4 340 $a Rudolph $b H. 610 $a nucleation 610 $a Si substrates 610 $a VerS 610 $a HorS 700 -1
$3 cav_un_auth*0295747 $a Domonkos $b Mária $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258087 $a Ižák $b Tibor $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $y SK $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0280065 $a Varga $b Marián $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0224392 $a Potocký $b Štěpán $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100328 $a Kromka $b Alexander $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $9 RIV $u https://www.elsevier.com/events/conferences/international-conference-on-applied-surface-science/programme
Počet záznamů: 1