Počet záznamů: 1
Plasma jet sputtering as a perspective tool for the preparation of Co-Cu-Mn oxides: effect of preparation conditions on properties and oxidation activity.
SYS 0581867 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240402215118.8 017 $2 DOI 100 $a 20240125d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a ES 200 1-
$a Plasma jet sputtering as a perspective tool for the preparation of Co-Cu-Mn oxides: effect of preparation conditions on properties and oxidation activity. 215 $a 2 s. $c C 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0580413 $1 010 $a N $1 200 1 $a Book of Abstracts $1 210 $d 2023 610 $a Co-Cu-Mn oxides 610 $a plasma coatings on meshes 610 $a VOC oxidation 700 -1
$3 cav_un_auth*0108020 $a Jirátová $b Květa $p UCHP-M $i Výzkumná skupina katalýzy a reakčního inženýrství $j Catalysis and Reaction Engineering Research Group $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0364551 $a Perekrestov $b Roman $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y UA $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0108027 $a Balabánová $b Jana $p UCHP-M $i Výzkumná skupina katalýzy a reakčního inženýrství $j Catalysis and Reaction Engineering Research Group $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287685 $a Koštejn $b Martin $p UCHP-M $i Výzkumná skupina laserové chemie $j Laser Chemistry Research Group $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0086504 $a Maixner $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0233848 $a Topka $b Pavel $p UCHP-M $i Výzkumná skupina katalýzy a reakčního inženýrství $j Catalysis and Reaction Engineering Research Group $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015334 $a Kovanda $b F. $y CZ $4 070 856 $u https://hdl.handle.net/11104/0349993 $9 RIV
Počet záznamů: 1