Počet záznamů: 1
Litografická maska
SYS 0544061 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103230031.4 100 $a 20210712d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Litografická maska 210 $d 2021 541 $a Lithographic mask $z eng 610 $a electron beam lithography 610 $a photomask 700 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0301528 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 30 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0311793 $a Meluzín $b Petr $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 10 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258195 $a Matějka $b Milan $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0383620 $a Burda $b Daniel $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0411755 $a Ondříšková $b Martina $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $9 20 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0305288 $a Lalinský $b Ondřej $p UPT-D $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $w Electron Microscopy $4 070 $9 5 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0279193 $a Horodyský $b P. $y CZ $4 070 $9 15
Počet záznamů: 1