Počet záznamů: 1
Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H.sub.2./sub.S gas mixture
SYS 0533973 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103224645.5 014 $a 85083055184 $2 SCOPUS 014 $a 000524211800051 $2 WOS 017 70
$a 10.3390/coatings10030246 $2 DOI 100 $a 20201104d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture 215 $a 17 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0377065 $1 011 $e 2079-6412 $1 200 1 $a Coatings $v Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-17 $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 608 $a Article 610 $a HiPIMS 610 $a Langmuir probe 610 $a optical emission spectrometry 610 $a time-resolved probe measurements 610 $a H2S 610 $a electron density 610 $a electron temperature 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0398682 $a Kapran $b Anna $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y KZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0383701 $a Zanáška $b Michal $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ 856 $u http://hdl.handle.net/11104/0312196 $9 RIV
Počet záznamů: 1