Počet záznamů: 1
Transferless Inverted graphene/silicon heterostructures prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon on CVD graphene
SYS 0531897 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103224350.4 014 $a 85082713590 $2 SCOPUS 014 $a 000526090400189 $2 WOS 017 70
$a 10.3390/nano10030589 $2 DOI 100 $a 20200902d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Transferless Inverted graphene/silicon heterostructures prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon on CVD graphene 215 $a 10 s. 300 $a smazání projetu LM2015087 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0445648 $1 011 $e 2079-4991 $1 200 1 $a Nanomaterials $v Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-10 $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 608 $a Article 610 $a silicon 610 $a graphene 610 $a heterostructure 610 $a CDV 700 -1
$3 cav_un_auth*0287362 $a Müller $b Martin $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0264065 $a Bouša $b Milan $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0308021 $a Hájková $b Zdeňka $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100351 $a Ledinský $b Martin $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0395005 $a Drogowska-Horna $b Karolina A. $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $y PL $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102823 $a Kalbáč $b Martin $p UFCH-W $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0233265 $a Frank $b Otakar $p UFCH-W $i Odd. elektrochemických materiálů $j Dept. of Electrochemical Materials $z K $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 856 $u http://hdl.handle.net/11104/0310529 $9 RIV
Počet záznamů: 1