Počet záznamů: 1
The effect of magnetic field strength and geometry on the deposition rate and ionized flux fraction in the HiPIMS discharge
SYS 0519372 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103223403.2 017 $a 10.3390/plasma2020015 $2 DOI 100 $a 20200110d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a CH 200 1-
$a The effect of magnetic field strength and geometry on the deposition rate and ionized flux fraction in the HiPIMS discharge 215 $a 21 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0519371 $1 011 $e 2571-6182 $1 200 1 $a Plasma $v Roč. 2, č. 2 (2019), s. 201-221 $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 610 $a ionized physical vapor deposition 610 $a magnetron sputtering 610 $a high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) 610 $a ionized flux fraction 610 $a deposition rate 700 -1
$3 cav_un_auth*0386963 $a Hajihoseini $b H. $y IS 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0386964 $a Ünaldi $b S. $y FR 701 -1
$3 cav_un_auth*0386965 $a Raadu $b M.A. $y SE 701 -1
$3 cav_un_auth*0386966 $a Brenning $b N. $y FR 701 -1
$3 cav_un_auth*0386967 $a Gudmundsson $b J.T. $y IS 701 -1
$3 cav_un_auth*0302435 $a Lundin $b D. $y FR 856 $9 RIV $u http://hdl.handle.net/11104/0304364
Počet záznamů: 1