Počet záznamů: 1
Photo-electrochemical properties of WO.sub.3./sub. and alpha-Fe.sub.2./sub.O.sub.3./sub. thin films
SYS 0510813 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103222903.3 014 $a 84908658681 $2 SCOPUS 014 $a 000346539800064 $2 WOS 017 70
$a 10.3303/CET1441064 $2 DOI 100 $a 20191112d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a IT 200 1-
$a Photo-electrochemical properties of WO3 and alpha-Fe2O3 thin films 215 $a 6 s. 225 1-
$a Chemical Engineering Transactions 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0359119 $1 011 $a 1974-9791 $1 200 1 $a Chemical Engineering Transactions $v Roč. 41, SI (2014), s. 379-384 608 $a Proceedings Paper 610 $a sputtering 610 $a HiPIMS 610 $a thin films 700 -1
$3 cav_un_auth*0312380 $a Krysa $b J. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0245114 $a Zlámal $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $9 RIV $u http://hdl.handle.net/11104/0301192
Počet záznamů: 1