Počet záznamů: 1
Cobalt Oxide Catalysts in the Form of Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering on Stainless-Steel Meshes: Performance in Ethanol Oxidation.
SYS 0509504 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103222707.4 014 $a 85073286523 $2 SCOPUS 014 $a 000498266100022 $2 WOS 017 $a 10.3390/catal9100806 $2 DOI 100 $a 20191016d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a CH 200 1-
$a Cobalt Oxide Catalysts in the Form of Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering on Stainless-Steel Meshes: Performance in Ethanol Oxidation. 215 $a 16 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0445483 $1 011 $e 2073-4344 $1 200 1 $a Catalysts $v Roč. 9, č. 10 (2019) $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 610 $a coating 610 $a thin film 610 $a cobalt oxides 700 -1
$3 cav_un_auth*0108020 $4 070 $a Jirátová $b Květa $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0364551 $4 070 $a Perekrestov $b Roman $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y UA $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0065857 $4 070 $a Dvořáková $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0108027 $4 070 $a Balabánová $b Jana $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0233848 $4 070 $a Topka $b Pavel $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287685 $4 070 $a Koštejn $b Martin $p UCHP-M $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $4 070 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $4 070 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $4 070 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015334 $4 070 $a Kovanda $b F. $y CZ 856 $9 RIV $u https://www.mdpi.com/2073-4344/9/10/806
Počet záznamů: 1