Počet záznamů: 1
Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films
SYS 0485935 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215521.3 014 $a 84901757358 $2 SCOPUS 014 $a 000393239500005 $2 WOS 017 $2 DOI 100 $a 20180201d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a CZ 200 1-
$a Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films 215 $a 10 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0485934 $1 010 $a 978-163266006-0 $1 200 1 $a XIXth Symposium on Physics of Switching Arc $v S. 47-56 $1 210 $a Brno $c Brno University of Technology $d 2011 $1 702 1 $4 340 $a Aubrecht $b V. 610 $a plasma jet 610 $a TiO2 thin film 610 $a photocatalytic 610 $a XRD 610 $a IVDF 610 $a RFA 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0221302 $a Straňák $b V. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0016323 $a Klusoň $b J. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0242338 $a Klusoň $b Petr $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $p UCHP-M $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1