Počet záznamů: 1
Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent
SYS 0485925 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215520.5 100 $a 20171121d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent 210 $d 2017 541 $a Plasmatic system for coatings of hollow substrates $z eng 610 $a sputtering 610 $a thin films 610 $a plasma 610 $a deposition 610 $a hollow cathode 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0320298 $a Klinger $b Miloslav $i Materiálová analýza $j Material Analysis $p FZU-D $w Optical and Biophysical Systems $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1