Počet záznamů: 1
Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu
SYS 0481686 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215001.0 100 $a 20171121d m y slo 03 ba 101 $a cze 200 1-
$a Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu 210 $d 2017 541 $a A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method $z eng 610 $a hollow cathode 610 $a plasma nozzle 610 $a deposition 610 $a thin films 700 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $9 RIV $u https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Počet záznamů: 1