Počet záznamů: 1  

Vícetryskový PVD depoziční systém

  1. SYS0465021
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20170814115413.7
    017
      
    $2 DOI
    100
      
    $a 20161109d m y slo 03 ba
    101
      
    $a cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Vícetryskový PVD depoziční systém
    210
      
    $d 2016
    541
      
    $a Multijet PVD deposition system $z eng
    610
      
    $a hollow cathode discharge
    610
      
    $a multi plasma-jet
    610
      
    $a thin films
    610
      
    $a PVD
    610
      
    $a sputtering
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.