Počet záznamů: 1
Shape Selective Photoinduced Electrochemical Behaviour of Thin ZnO Layers Prepared by Surfatron.
SYS 0453099 LBL 02950^^^^^2200385^^^450 005 20240103211509.0 014 $a 84959567487 $2 SCOPUS 014 $a 000366647000021 $2 WOS 017 70
$a 10.1016/j.tsf.2015.11.003 $2 DOI 100 $a 20151221d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a CH 200 1-
$a Shape Selective Photoinduced Electrochemical Behaviour of Thin ZnO Layers Prepared by Surfatron. 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257662 $1 011 $a 0040-6090 $e 1879-2731 $1 200 1 $a Thin Solid Films $v Roč. 597, DEC 31 (2015), s. 131-139 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a zinc oxide 610 0-
$a surfatron 610 0-
$a plasma-enhaced chemical vapor deposition 610 0-
$a electrochemistry 700 -1
$3 cav_un_auth*0264834 $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $a Dytrych $b Pavel $p UCHP-M $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0242338 $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $a Klusoň $b Petr $p UCHP-M $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103378 $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $a Šolcová $b Olga $p UCHP-M $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Straňák $b Vítězslav $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Čada $b Martin $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1