Počet záznamů: 1
Ionization of sputtered Ti, Al, and C coupled with plasma characterization in HiPIMS
SYS 0449520 LBL 02386^^^^^2200373^^^450 005 20240103211035.4 014 $a 84937554357 $2 SCOPUS 014 $a 000356857800043 $2 WOS 017 70
$a 10.1088/0963-0252/24/3/035018 $2 DOI 100 $a 20151103d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Ionization of sputtered Ti, Al, and C coupled with plasma characterization in HiPIMS 215 $a 11 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0254752 $1 011 $a 0963-0252 $e 1361-6595 $1 200 1 $a Plasma Sources Science & Technology $v Roč. 24, č. 3 (2015), s. 035018 $1 210 $c Institute of Physics Publishing 610 0-
$a IPVD 610 0-
$a HiPIMS 610 0-
$a HPPMS 610 0-
$a Langmuir probe 610 0-
$a ion meter 700 -1
$3 cav_un_auth*0302435 $4 070 $a Lundin $b D. $y FR 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Čada $b Martin $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1