Počet záznamů: 1
Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges
SYS 0373839 LBL 02691^^^^^2200433^^^450 005 20240103200544.8 014 $a 000296630800029 $2 WOS 017 $a 10.1140/epjd/e2011-20393-7 $2 DOI 100 $a 20120210d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a DE 200 1-
$a Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0252909 $1 011 $a 1434-6060 $e 1434-6079 $1 200 1 $a European Physical Journal D $v Roč. 64, 2-3 (2011), 427-435 $1 210 $c Springer 610 0-
$a dual magnetron 610 0-
$a Ti-Cu film 610 0-
$a HiPIMS 610 0-
$a diagnostics 610 0-
$a ion energy 700 -1
$3 cav_un_auth*0272069 $a Straňák $b V. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257508 $a Wulff $b H. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0279394 $a Bogdanowicz $b R. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0272070 $a Drache $b S. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0224595 $a Hippler $b R. $y DE $4 070
Počet záznamů: 1