Počet záznamů: 1  

The deposition of 3C-SiC thin films onto the (111) and (110) faces of Si using pulsed sputtering of a hollow cathode

  1. SYS0370779
    LBL
      
    01765^^^^^2200349^^^450
    005
      
    20240103200213.2
    014
      
    $a 000279657600030 $2 WOS
    017
      
    $a 10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.131 $2 DOI
    100
      
    $a 20120109d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a CH
    200
    1-
    $a The deposition of 3C-SiC thin films onto the (111) and (110) faces of Si using pulsed sputtering of a hollow cathode
    215
      
    $a 4 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0254262 $1 011 $a 0255-5476 $1 200 1 $a Materials Science Forum $v 645-648, 1-2 (2010), s. 131-134
    610
    0-
    $a sputtering
    610
    0-
    $a pulse
    610
    0-
    $a germanium
    610
    0-
    $a 3C
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0255508 $a Huguenin-Love $b J.L. $y US $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0255509 $a Lauer $b N.T. $y US $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0039495 $a Soukup $b R. J. $y US $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0201402 $a Ianno $b N.J. $y US $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.