Počet záznamů: 1
The deposition of 3C-SiC thin films onto the (111) and (110) faces of Si using pulsed sputtering of a hollow cathode
SYS 0370779 LBL 01765^^^^^2200349^^^450 005 20240103200213.2 014 $a 000279657600030 $2 WOS 017 $a 10.4028/www.scientific.net/MSF.645-648.131 $2 DOI 100 $a 20120109d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a The deposition of 3C-SiC thin films onto the (111) and (110) faces of Si using pulsed sputtering of a hollow cathode 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0254262 $1 011 $a 0255-5476 $1 200 1 $a Materials Science Forum $v 645-648, 1-2 (2010), s. 131-134 610 0-
$a sputtering 610 0-
$a pulse 610 0-
$a germanium 610 0-
$a 3C 700 -1
$3 cav_un_auth*0255508 $a Huguenin-Love $b J.L. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0255509 $a Lauer $b N.T. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0039495 $a Soukup $b R. J. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0201402 $a Ianno $b N.J. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1