Počet záznamů: 1  

The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

  1. SYS0352722
    LBL
      
    02540^^^^^2200469^^^450
    005
      
    20240103194447.0
    014
      
    $a 000281958600017 $2 WOS
    017
      
    $a 10.1088/0957-4484/21/41/415604 $2 DOI
    100
      
    $a 20101223d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a GB
    200
    1-
    $a The structure and growth mechanism of Si nanoneedles prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    215
      
    $a 7 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0254430 $1 011 $a 0957-4484 $e 1361-6528 $1 200 1 $a Nanotechnology $v Roč. 21, č. 41 (2010), 415604/1-415604/7 $1 210 $c Institute of Physics Publishing
    610
    0-
    $a nanoneedles
    610
    0-
    $a nanowires
    610
    0-
    $a silicon
    610
    0-
    $a plasma
    610
    0-
    $a chemical vapor deposition
    610
    0-
    $a crystal structure
    610
    0-
    $a growth
    610
    0-
    $a phonon
    610
    0-
    $a SEM
    610
    0-
    $a Raman
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0258696 $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $a Červenka $b Jiří $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100351 $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $a Ledinský $b Martin $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100533 $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $a Stuchlík $b Jiří $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100534 $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $a Stuchlíková $b The-Ha $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0102642 $i Centrum instrumentálních technik $j Centre of Instrumental Techniques $k CIT $l CIT $4 070 $a Bakardjieva $b Snejana $p UACH-T $T Ústav anorganické chemie AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0247345 $i Spintronika a nanoelektronika $j Spintronics and Nanoelectronics $4 070 $a Hruška $b Karel $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100196 $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100295 $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $a Kočka $b Jan $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.