Počet záznamů: 1  

Mapping of Dopants in Silicon by Injection of Electrons

  1. SYS0352508
    LBL
      
    01582^^^^^2200277^^^450
    005
      
    20240103194432.8
    100
      
    $a 20101221d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng $d eng
    102
      
    $a JP
    200
    1-
    $a Mapping of Dopants in Silicon by Injection of Electrons
    215
      
    $a 4 s.
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0352507 $1 010 $a 978-4-9903248-2-7 $1 200 1 $a Proceedings of 5th Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology $v S. 15-18 $1 210 $a Toyama $c University of Toyama $d 2010
    610
    0-
    $a semiconductors
    610
    0-
    $a dopant contrast
    610
    0-
    $a very low energy SEM
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0052204 $a Hovorka $b Miloš $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0101547 $a Frank $b Luděk $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.